-5 °C
Az AECC pekingi aeronautikai anyagkutató intézetének (BIAM) munkatársai grafén-polipropilén réteget applikáltak az arcmaszk úgynevezett nem szőtt textil alapanyagára.
A grafén kétdimenziós, vagyis egyetlen atom vastagságú nanoanyag, amely ígéretes lehetőségeket tartogat az űrrepülés, az energiaszektor és az orvosbiológiai eszközök ipara számára.
Ezzel az új réteggel az arcmaszk antibakteriális tulajdonsága, légáteresztő képessége és tartóssága is javult. Az újfajta maszk a grafén "nanokését" felhasználva pusztítja el a baktériumok sejtfalát.
A hagyományos, nem szőtt textilből készült maszkokkal szemben az új grafénréteges arcvédő egy irányban áteresztő, ezért kényelmesebb a viselése, ráadásul több mint 48 órán át használható, sokkal hosszabb ideig, mint a hagyományos - nem szőtt polipropiléből készült - arcvédők.
A grafénnek kitűnő optikai, elektromos és mechanikai tulajdonságai, széles körű antibakteriális és antivirális képességei vannak, előállítása egyszerű.
Az AECC BIAM kifejlesztette a baktériumálló grafénes nem szőtt textil anyag, valamint a grafénmaszk kísérleti gyártási technológiáját is.
